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Materials Science 材料科学
Micro/NanoElectronics - Materials Science
Vapor Deposition Precursors - Micro/NanoElectronics
CVD and ALD Precursors by Metal - Vapor Deposition Precursors
Copper - CVD and ALD Precursors by Metal
Copper - CVD and ALD Precursors by Metal
目录项下的产品
14040-05-2 / MFCD00058920
Bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)copper(II)
双(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)化铜
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试剂
安徽省
中华人民共和国
√
80289-21-0 / MFCD00156516
Copper, bis[1,1,2,2-tetrafluoro-6,6-dimethyl-1-(trifluoromethoxy)-3,5-heptanedionato
双(6,6,7,7,8,8,8,-七氟-2,2-二甲基-3,5-辛二酮酸)铜(II)
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试剂